[1] H. Shang, W. Huang, C. Liu, W. Xu, W. Yang. Chin. Opt. Lett., 11, 090802(2013).

[2] Y. Uehara, J. Ishikawa, H. Kohno, E. Tanaka, M. O. Ohba, Y. Shibazaki. Proc. SPIE, 8326, 83261H(2012).

[3] Z. Cao, Y. Li, S. Mao. Opt. Eng., 56, 025102(2017).

[4] D. G. Flagello, S. P. Renwick. Proc. SPIE, 9426, 942604(2015).

[5] K. P. Thompson, J. P. Rolland. Opt. Photon. News, 23, 30(2012).

[6] Y. Liu, Y. Li, Z. Cao. Appl. Opt., 55, 4917(2016).

[7] D. Cheng, Y. Wang, H. Hua, M. M. Talha. Appl. Opt., 48, 2655(2009).

[8] F. Duerr, Y. Meuret, H. Thienpont. Opt. Express, 21, 31072(2013).

[9] T. Yang, G. Jin, J. Zhu. Chin. Opt. Lett., 15, 062202(2017).

[10] H. J. Mann. Projection optics for microlithography. U.S. Patent(2014).

[11] J. M. Sasian, M. R. Descour. Opt. Eng., 37, 1001(1998).

[12] X. Cheng, Y. Wang, Q. Hao, J. Sasian. Appl. Opt., 42, 1309(2003).

[13] S. Weichselbaum, F. Bornebroek, T. Kort, R. Droste, R. Graaf, R. Ballegoij, H. Botter, M. G. Mclaren, W. P. Boeij. Proc. SPIE, 9426, 942616(2015).

[14] D. Shafer, W. Ulrich, A. Dodoc, R. V. Buenau, H. J. Mann, A. Epple. Catadioptric projection objective. U.S. Patent(2011).

[15] O. Marinescu, F. Bociort. Opt. Eng., 47, 093002(2008).

[16] H. Jasper, T. Modderman, M. Kerhof, C. Wagner, J. Mulkens, W. Boeij, E. Setten, B. Kneer. Proc. SPIE, 6154, 61541W(2006).

[17] C. Supranowitz, P. Dumas, T. Nitzsche, J. D. Nelson, B. Light, K. Medicus, N. Smith. Proc. SPIE, 8884, 888411(2013).