• High Power Laser Science and Engineering
  • Vol. 12, Issue 1, 010000e1 (2024)
Chen Hu1,2,3, Songlin Wan1,2,*, Guochang Jiang1,2, Haojin Gu1,2..., Yibin Zhang2, Yunxia Jin2, Shijie Liu1,2,3,5, Chengqiang Zhao2, Hongchao Cao2, Chaoyang Wei1,2,3,* and Jianda Shao1,2,3,4,5,*|Show fewer author(s)
Author Affiliations
  • 1Precision Optical Manufacturing and Testing Center, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences (CAS), Shanghai, China
  • 2Key Laboratory for High Power Laser Material of Chinese Academy of Sciences, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, CAS, Shanghai, China
  • 3Center of Materials Science and Optoelectronics Engineering, University of Chinese Academy of Sciences, Beijing, China
  • 4Hangzhou Institute for Advanced Study, University of Chinese Academy of Sciences, Hangzhou, China
  • 5China-Russian Belt and Road Joint Laboratory on Laser Science, Shanghai, China
  • show less
    DOI: 10.1017/hpl.2023.81 Cite this Article Set citation alerts
    Chen Hu, Songlin Wan, Guochang Jiang, Haojin Gu, Yibin Zhang, Yunxia Jin, Shijie Liu, Chengqiang Zhao, Hongchao Cao, Chaoyang Wei, Jianda Shao, "Specifications and control of spatial frequency errors of components in two-beam laser static holographic exposure for pulse compression grating fabrication," High Power Laser Sci. Eng. 12, 010000e1 (2024) Copy Citation Text show less
    References

    [1] A. B. Zylstra, O. A. Hurricane, D. A. Callahan, A. L. Kritcher, J. E. Ralph, H. F. Robey, J. S. Ross, C. V. Young, K. L. Baker, D. T. Casey, T. Döppner, L. Divol, M. Hohenberger, S. Le Pape, A. Pak, P. K. Patel, R. Tommasini, S. J. Ali, P. A. Amendt, L. J. Atherton, B. Bachmann, D. Bailey, L. R. Benedetti, L. Berzak Hopkins, R. Betti, S. D. Bhandarkar, J. Biener, R. M. Bionta, N. W. Birge, E. J. Bond, D. K. Bradley, T. Braun, T. M. Briggs, M. W. Bruhn, P. M. Celliers, B. Chang, T. Chapman, H. Chen, C. Choate, A. R. Christopherson, D. S. Clark, J. W. Crippen, E. L. Dewald, T. R. Dittrich, M. J. Edwards, W. A. Farmer, J. E. Field, D. Fittinghoff, J. Frenje, J. Gaffney, M. Gatu Johnson, S. H. Glenzer, G. P. Grim, S. Haan, K. D. Hahn, G. N. Hall, B. A. Hammel, J. Harte, E. Hartouni, J. E. Heebner, V. J. Hernandez, H. Herrmann, M. C. Herrmann, D. E. Hinkel, D. D. Ho, J. P. Holder, W. W. Hsing, H. Huang, K. D. Humbird, N. Izumi, L. C. Jarrott, J. Jeet, O. Jones, G. D. Kerbel, S. M. Kerr, S. F. Khan, J. Kilkenny, Y. Kim, H. Geppert Kleinrath, V. Geppert Kleinrath, C. Kong, J. M. Koning, J. J. Kroll, M. K. G. Kruse, B. Kustowski, O. L. Landen, S. Langer, D. Larson, N. C. Lemos, J. D. Lindl, T. Ma, M. J. MacDonald, B. J. MacGowan, A. J. Mackinnon, S. A. MacLaren, A. G. MacPhee, M. M. Marinak, D. A. Mariscal, E. V. Marley, L. Masse, K. Meaney, N. B. Meezan, P. A. Michel, M. Millot, J. L. Milovich, J. D. Moody, A. S. Moore, J. W. Morton, T. Murphy, K. Newman, J. M. G. Di Nicola, A. Nikroo, R. Nora, M. V. Patel, L. J. Pelz, J. L. Peterson, Y. Ping, B. B. Pollock, M. Ratledge, N. G. Rice, H. Rinderknecht, M. Rosen, M. S. Rubery, J. D. Salmonson, J. Sater, S. Schiaffino, D. J. Schlossberg, M. B. Schneider, C. R. Schroeder, H. A. Scott, S. M. Sepke, K. Sequoia, M. W. Sherlock, S. Shin, V. A. Smalyuk, B. K. Spears, P. T. Springer, M. Stadermann, S. Stoupin, D. J. Strozzi, L. J. Suter, C. A. Thomas, R. P. J. Town, E. R. Tubman, C. Trosseille, P. L. Volegov, C. R. Weber, K. Widmann, C. Wild, C. H. Wilde, B. M. Van Wonterghem, D. T. Woods, B. N. Woodworth, M. Yamaguchi, S. T. Yang, G. B. Zimmerman. Nature, 601(2022).

    [2] W. Wang, K. Feng, L. Ke, C. Yu, Y. Xu, R. Qi, Y. Chen, Z. Qin, Z. Zhang, M. Fang, J. Liu, K. Jiang, H. Wang, C. Wang, X. Yang, F. Wu, Y. Leng, J. Liu, R. Li, Z. Xu. Nature, 595, 516(2021).

    [3] T. M. Baer, N. P. Bigelow. Nature, 463, 26(2010).

    [4] R. Y. Chen, Y. Z. Wang, J. D. Shao, Y. Cao, Y. H. Zhang, Z. H. Wang, Y. C. A. Shao, Y. X. Jin, K. Yi, J. B. Hu, Y. Xu, Y. X. Leng, R. X. Li. IEEE Photonics Technol. Lett., 34, 93(2022).

    [5] W. F. Zhang, W. J. Kong, G. M. Wang, F. Xing, F. Zhang, H. N. Zhang, S. G. Fu. Opt. Eng., 60, 020902(2021).

    [6] F. Kong, H. Huang, L. Wang, J. Shao, Y. Jin, Z. Xia, J. Chen, L. Li. Opt. Laser Technol., 97, 339(2017).

    [7] C. N. Danson, C. Haefner, J. Bromage, T. Butcher, J. C. F. Chanteloup, E. A. Chowdhury, A. Galvanauskas, L. A. Gizzi, J. Hein, D. I. Hillier, N. W. Hopps, Y. Kato, E. A. Khazanov, R. Kodama, G. Korn, R. X. Li, Y. T. Li, J. Limpert, J. G. Ma, C. H. Nam, D. Neely, D. Papadopoulos, R. R. Penman, L. J. Qian, J. J. Rocca, A. A. Shaykin, C. W. Siders, C. Spindloe, S. Szatmari, R. Trines, J. Q. Zhu, P. Zhu, J. D. Zuegel. High Power Laser Sci. Eng, 7, e54(2019).

    [8] W. Li, Z. Gan, L. Yu, C. Wang, Y. Liu, Z. Guo, L. Xu, M. Xu, Y. Hang, Y. Xu, J. Wang, P. Huang, H. Cao, B. Yao, X. Zhang, L. Chen, Y. Tang, S. Li, X. Liu, S. Li, M. He, D. Yin, X. Liang, Y. Leng, R. Li, Z. Xu. Opt. Lett., 43, 5681(2018).

    [9] Z. Gan, L. Yu, S. Li, C. Wang, X. Liang, Y. Liu, W. Li, Z. Guo, Z. Fan, X. Yuan, L. Xu, Z. Liu, Y. Xu, J. Lu, H. Lu, D. Yin, Y. Leng, R. Li, Z. Xu. Opt. Express, 25, 5169(2017).

    [10] Y. Zhou, Z. Qin, X. Zhou, G. Xie. High Power Laser Sci. Eng, 10, e41(2022).

    [11] F. Wu, J. Hu, X. Liu, Z. Zhang, P. Bai, X. Wang, Y. Zhao, X. Yang, Y. Xu, C. Wang. High Power Laser Sci. Eng, 10, e38(2022).

    [12] N. Bonod, J. Neauport. Adv. Opt. Photonics, 8(2016).

    [13] G. S. Pati, R. K. Heilmann, P. T. Konkola, C. Joo, C. G. Chen, E. Murphy, M. L. Schattenburg. J. Vacuum Sci. Technol. B, 20, 2617(2002).

    [14] S. Lu, R. Cheng, K. Yang, Y. Zhu, L. Wang, M. Zhang. Opt. Eng., 57, 104107(2018).

    [15] L. Zeng, L. Li. Opt. Lett., 31, 152(2006).

    [16] Y. Lu, X. Qi, X. Mi, S. Jiang, H. Yu, X. Li, L. Yin. Acta Opt. Sin., 36, 0505001(2016).

    [17] N. K. Pavlycheva. J. Opt. Technol., 89, 142(2022).

    [18] H. T. Nguyen, J. A. Britten, T. C. Carlson, J. D. Nissen, L. J. Summers, C. R. Hoaglan, M. D. Aasen, J. E. Peterson, I. Jovanovic. Proc. SPIE, 5991, 59911M(2006).

    [19] Y. Zhao. , “Ultra-high precision scanning beam interference lithography and its application : spatial frequency multiplication,” PhD. Thesis (Massachusetts Institute of Technology, ).(2008).

    [20] B. G. Turukhano, V. P. Gorelik, S. N. Kovalenko, N. Turukhano. Opt. Laser Technol., 28, 263(1996).

    [21] J. Qiao, A. Kalb, M. J. Guardalben, G. King, D. Canning, J. H. Kelly. Opt. Express, 15, 9562(2007).

    [22] P. A. Baisden, L. J. Atherton, R. A. Hawley, T. A. Land, J. A. Menapace, P. E. Miller, M. J. Runkel, M. L. Spaeth, C. J. Stolz, T. I. Suratwala, P. J. Wegner, L. L. Wong. Fusion Sci. Technol, 69, 295(2016).

    [23] H. Wang, S. Moriconi, K. Sawhney. Light Sci. Appl, 10, 195(2021).

    [24] S. Wan, C. Wei, C. Hu, H. Gu, J. Shao. Opt. Express, 29, 23582(2021).

    [25] W.-L. Zhu, A. Beaucamp. Int. J. Mach. Tools Manufact., 158, 103634(2020).

    [26] Z. Zhang, J. Yan, T. Kuriyagawa. Int. J. Extreme Manufact., 1, 022001(2019).

    [27] M. Born, E. Wolf. Principles of Optics: Electromagnetic Theory of Propagation, Interference and Diffraction of Light(1964).

    [28] R. D. Boyd, J. A. Britten, D. E. Decker, B. W. Shore, L. Li. Appl. Opt., 34, 1697(1995).

    [29] K. Iizuka, I. Keigo. Engineering Optics, 35(2008).

    [30] P. Diniz, S. Netto, E. D. Silva. Digital Signal Processing: System Analysis and Design(2010).

    [31] F. Koch, D. Lehr, T. Glaser. Proc. SPIE, 10448, 104481L(2017).

    [32] M. L. Spaeth, K. R. Manes, C. C. Widmayer, W. H. Williams, P. K. Whitman, M. A. Henesian, I. F. Stowers, J. Honig. Opt. Eng., 43, 2854(2004).

    [33] S. Wan, C. Wei, C. Hu, G. Situ, J. Shao. Int. J. Mach. Tools Manufact., 161, 103673(2021).

    [34] H. J. Li, X. Y. Li, S. L. Wan, C. Y. Wei, J. D. Shao. Appl. Opt., 60, 7732(2021).

    [35] X. Li, C. Wei, S. Zhang, W. Xu, J. Shao. Appl. Opt., 58, 4406(2019).

    Chen Hu, Songlin Wan, Guochang Jiang, Haojin Gu, Yibin Zhang, Yunxia Jin, Shijie Liu, Chengqiang Zhao, Hongchao Cao, Chaoyang Wei, Jianda Shao, "Specifications and control of spatial frequency errors of components in two-beam laser static holographic exposure for pulse compression grating fabrication," High Power Laser Sci. Eng. 12, 010000e1 (2024)
    Download Citation