[1] P. Das, R. L. Sandstrom. Proc. IEEE, 90, 1637(2002).
[2] L. Peter, T. Schroeder. Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp. U.S. patent(2003).
[3] Y. Wu, Y. Fan, G. Liu, Y. Zhou. Laser Optoelectron. Progress, 52, 073002(2015).
[4] Y. Fan, Y. Zhou, G. Liu, X. Song, Y. Shan, Q. Wang, J. Zhao. Chin. J. Lasers, 43, 0202001(2016).
[5] T. Suzuki, H. Kubo, T. Suganuma, T. Yamashita, O. Wakabayashi, H. Mizoguchi. Proc. SPIE, 4000, 1452(2001).
[7] F. Babin, P. Camus, J. M. Gagné, P. Pillet, J. Boulmer. Opt. Lett., 12, 468(1987).
[8] S. Levesque, F. Babin, J. M. Gagne. IEEE Trans. Instrum. Meas., 42, 251(1993).
[9] L. Matsuoka, K. Ogawa, K. Yokoyama. Lasers Electro-Opt. Pacific Rim, 1011(2013).
[11] T. L. Chen, C. Y. Lin, J. T. Shy, Y. W. Liu. J. Opt. Soc. Am. B, 30, 2966(2013).
[12] K. Suzuki, B. W. Smith. Microlithography Science and Technology, 272(2007).
[13] M. N. Reddy. Def. Sci. J., 44, 279(1994).
[15] H. Zhang, Z. Yuan, J. Zhou, Q. Lou. Chin. Opt. Lett., 11, 041405(2013).
[16] H. Zhang, Z. Yuan, J. Zhou, J. Dong, Y. Wei, Q. Lou. Chin. J. Lasers, 38, 1102008(2011).
[18] Q. Zhou, J. Pang, X. Li, N. Kai, R. Tian. Chin. Opt. Lett., 13, 110501(2015).
[19] M. Blosser, X. L. Han, R. F. Garcia-Sanchez, P. Misra. Appl. Spectrosc. Sci. Nanomater., 2, 21(2015).
[20] S. Mahmood, M. Anwar-Ul-Haq, M. Riaz, M. A. Baig. Eur. Phys. J. D, 36, 1(2005).
[21] V. K. Saini, P. Kumar, S. K. Dixit, S. V. Nakhe. Appl. Opt., 53, 4320(2014).
[22] X. Zhu, A. H. Nur, P. Misra. J. Quantum Spectrosc. Radiat. Transfer, 52, 167(1994).
[23] V. K. Saini, P. Kumar, S. K. Dixit, S. V. Nakhe. Appl. Opt., 54, 595(2015).
[24] C. Li, L. Liu, X. Qiu, J. Wei, L. Deng, Y. Chen. Chin. Opt. Lett., 13, 013001(2015).
[26] D. M. Mehs, T. M. Niemczyk. Appl. Spectrosc., 32, 269(1978).