[1] Y. Li, T. B. Mayank, E. L. Kenneth, A. F. Eugene. J. Cryst. Growth, 324, 82(2011).
[3] K. F. Yarn, W. C. Chien, C. L. Lin, C. I. Liao. Act. Passive Electron. Compon., 26, 71(2003).
[4] Z. Xiong, Q. Wang, Z. G. Jia, Y. Q. Huang, X. M. Ren. Proc. SPIE, 8555, 85550Y(2012).
[7] K. Radhakrishna, K. Yuan, W. Hong. J. Cryst. Growth, 261, 16(2004).
[8] A. Ren, X. M. Ren, Q. Wang. Microelectron. J., 37, 700(2006).
[9] J. P. Hirth, X. X. Feng. J. Appl. Phys., 67, 3343(1990).
[10] Z. Griffith, Y. M. Kim, M. Dahlstrom. IEEE Electron Device Lett., 25, 675(2004).
[12] D. Xiong, X. Ren, Q. Wang, J. Zhou, W. Shu, J. Lü, S. Cai, H. Huang, Y. Huang. Chin. Opt. Lett., 5, 422(2007).
[13] L. J. Sun, H. Huang, J. H. Lü, S. W. Cai, W. W. Luo, Q. Wang, Y. Q. Huang, X. M. Ren. Semicond. Technol., 134, 442(2009).
[14] X. F. Duan, Y. Q. Huang, Y. F. Shang, J. Wang, X. M. Ren. Opt. Lett., 39, 2447(2014).
[17] V. M. Ustinov, A. E. Zhukov. Semicond. Sci. Technol., 15, R41(2000).
[18] S. R. Bank, H. P. Bse, H. B. Yuen, L. L. Goddard, M. A. Wistey, T. Sarmiento, J. S. Harris. Proceedings of OFC, OThN6(2006).
[20] L. Y. Karachinsky, T. Kettler, I. I. Novikov, Y. M. Shernyakov, N. Y. Gordeev, M. V. Maximov, N. V. Kryzhanovskaya, A. E. Zhukov, E. S. Semenova, A. P. Vasil’ev, V. M. Ustinov, G. Fio, M. Kuntz, A. Lochmann, O. Schulz, L. Reissmann, K. Posilovic, A. R. Kovsh, S. S. Mikhrin, V. A. Shchukin, N. N. Ledentsov, D. Bimberg. Semicond. Sic. Technol., 21, 691(2006).
[21] Z. Mi, P. Bhattacharya. IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron., 14, 1171(2008).
[23] H. Yu, J. Pan, Y. Shao, B. Wang, D. Zhou, W. Wang. Chin. Opt. Lett., 11, 031404(2013).