[1] K. Kodate and Y. Komai, J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 10, 044011 (2008).

[2] L. Qin, L. Wang, M. Li, and J.-J. He, IEEE Photon. Technol. Lett. 24, 954 (2012).

[3] P. Cheben, J. H. Schmid, A. Delage, A. Densmore, S. Janz, B. Lamontagne, J. Lapointe, E. Post, P. Waldron, and D.-X. Xu, Opt. Express 15, 2299 (2007).

[4] B. B. Kyotoku, L. Chen, and M. Lipson, Opt. Express 18, 102 (2010).

[5] M. I. Alayo, D. Criado, L. C. D. Goncalves, and I. Pereyra, J. Non-Cryst. Sol. 338, 76 (2004).

[6] N. Ismail, L. P. Choo-Smith, K. Worhoff, A. Driessen, A. C. Baclig, P. J. Caspers, G. J. Puppels, R. M. de Ridder, and M. Pollnau, Opt. Lett. 36, 4629 (2011).

[7] B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

[8] V. D. Nguyen, B. I. Akca, K. Worhoff, R. M. de Ridder, M. Pollnau, T. G. van Leeuwen, and J. Kalkman, Opt. Lett. 36, 1293 (2011).

[9] J.-J. He, B. Lamontagne, A. Delage, L. Erickson, M. Davis, and E. S. Koteles, J. Lightwave Technol. 16, 631 (1998).

[10] L. Wang, J.-J. He, J. Song, and S. He, J. Lightwave Technol. 24, 3743 (2006).

[11] B. Kim, K.-H. Kwon, and S.-H. Park, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2593 (1999).

[12] J.-H. Kim, G. Liu, and S. H. Kim, J. Mater. Chem. 16, 977 (2006).

[13] H. Nakata, K. Nishioka, and H. Abe, J. Vaccum Sci. Technol. 17, 1351 (1980).

[14] G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

[15] J.-J. He, E. S. Koteles, B. Lamontagne, L. Erickson, A. Delage, and M. Davies, IEEE Photon. Technol. Lett. 11, 224 (1999).