[1] S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, and N. Kaiser, Microelectron. Eng. 83, 692 (2006).
[2] J. M. Slaughter, P. A. Kearney, D. W. Schulze, C. M. Falco, C. R. Hills, E. B. Saloman, and R. N. Watts, Proc. SPIE 1343, 73 (1991).
[3] S. Bruijna, R. W. E. van de Kruijsa, A. E. Yakshina, and F. Bijkerka, Appl. Surf. Sci. 257, 2707 (2011).
[4] B. Yu, C. Li, and C. Jin, Chinese J. Lasers (in Chinese) 38, 1107002 (2011).
[5] S. Braun, H. Mai, M. Moss, and R. Scholz, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 4074 (2002).
[6] S. Bajt, J. B. Alameda, T. W. Barbee, Jr., W. M. Clift, J. A. Folta, B. B. Kaufmann, and E. A. Spiller, Opt. Eng. 41, 1797 (2002).
[7] A. E. Yakshin, R. W. E. van de Kruijs, I. Nedelcu, E. Zoethout, E. Louis, F. Bijkerk, H. Enkisch, and S. Mullender, Proc. SPIE 6517, 651701 (2007).
[8] H. Takenaka and T. Kawamura, J. Electron Spectros. Relat. Phenom. 80, 381 (1996).
[9] H. Takenaka, H. Ito, T. Haga, and T. Kawamura, J. Synchrotron Rad. 5, 708 (1998).
[10] D. G. Stearns, R. S. Rosen, and S. P. Vernon, Proc. SPIE 1547, 2 (1991).
[11] L. Zhang, Opt. Precision Eng. (in Chinese) 18, 2530 (2010).
[12] C. D. Johnson, K. Anderson, A. D. Gromko, and D. C. Johnson, J. Am. Chem. Soc. 120, 5226 (1998).
[13] T. Feigl, S. Yulin, N. Benoit, N. Kaiser, N. R. Bowering, A. I. Ershov, O. V. Khodykin, J. Viatella, K. Bruzzone, I. V. Fomenkov, and D. W. Myers, Proc. SPIE 6151, 61514A (2006).
