In-situ end-point detection during ion-beam etching of multilayer dielectric gratings

Hua Lin; Lifeng Li; Lijiang Zeng

[1] B. W. shore, M. D. Perry, J. A. Britten, R. D. Boyd, M. D. Feit, H. T. Nguyen, R. Chow, G. E. Loomis, and L. F. Li, J. Opt. Soc. Am. A 14, 1124 (1997).

[2] K. Hehl, J. Bischoff, U. Mohaupt, M. Palme, B. Schnabel, L. Wenke, R. Bodefeld, W. Theobald, E. Welsch, R. Sauerbrey, and H. Heyer, Appl. Opt. 38, 6257 (1999).

[3] S. Bosch-Charpenay, J. Z. Xu, J. Haigis, P. A. Rosenthal, P. R. Solomon, and J. M. Bustillo, J. Microelectromech. Syst. 11, 111 (2002).

[4] M. M. Bourke, K. P. Hilton, M. A. Crouch, M. J. Kane, N. Borsing, and T. Russell, in IEEE Workshop on High Performance Electron Devices for Microwave and Optoelectronic Applications 14 (1995).

[5] C. P. Chao, S. Y. Hu, P. Floyd, K-K. Law, S. W. Corzine, J. L. Merz, A. C. Gossard, and L. A. Coldren, IEEE Photon. Technol. Lett. 3, 585 (1991).

[6] A. S. Svakhin, V. A. Sychugov, and A. E. Tikhomirov, Quantum Electron. 24, 233 (1994).

[7] J. S. Zhao, L. F. Li, and Z. H. Wu, Acta Opt. Sin. (in Chinese) 24, 851 (2004).

[8] J. S. Zhao, L. F. Li, Z. H. Wu, Acta Opt. Sin. (in Chinese) 24, 1285 (2004).