[1] K. Tominaga, M. Kataoka, H. Manabe, T. Ueda, and I. Mori, Thin Solid Films 290-291, 84 (1996).

[2] H. Sheng, N. W. Emanetoglu, S. Muthukumar, B. V. Yakshinskiy, S. Feng, and Y. Lu, J. Electron. Mater. 32, 935 (2003).

[3] S. Choi, G. Shin, H. Byum, S. G. Oh, and S. Lee, Surf. Coatings Technol. 169-170, 557 (2003).

[4] Y. C. Lin, S. J. Chang, Y. K. Su, T. Y. Tsai, C. S. Chang, S. C. Shei, C. W. Kuo, and S. C. Chen, Solid-State Electron. 47, 849 (2003).

[5] T. Wang, X. G. Diao, and P. Ding, J. Alloy. Comp. 509, 4910 (2011).

[6] S. Cornelius, M. Vinnichenko, N. Shevchenko, A. Rogozin, A. Kolisch, and W. Moller, Appl. Phys. Lett. 94, 042103 (2009).

[7] X. X. Yan and G. Y. Xu, J. Alloy. Comp. 491, 649 (2010).

[8] F. Y. Zhang, Y. M. Zhou, Y. Cao, and J. Chen, Mater. Lett. 61, 4811 (2007).

[9] Y. Kim, W. Lee, D.-R. Jung, J. Kim, S. Nam, and H. Kim, Appl. Phys. Lett. 96, 171902 (2010).

[10] A. V. Singh, R. M. Mehra, N. Buthrath, A. Wakahara, and A. Yoshida, J. Appl. Phys. 90, 5661 (2001).

[11] P. Nunes, A. Malik, B. Fernandes, E. Fortunato, P. Vilarinho, and R. Martins, Vacuum 52, 45 (1999).

[12] L. Cai, G. Jiang, C. Zhu, and D. Wang, Phys. Status Solidi A 206, 1461 (2009).

[13] Y. C. Lin, J. H. Jiang, and W. T. Yen, Appl. Surf. Sci. 253, 1639 (2006).

[14] W. M. Li and H. Y. Hao, J. Mater. Sci. 47, 3516 (2012).

[15] H. B. Zhou, H. Y. Zhang, Z. G. Wang, and M. L. Tan, Mater. Lett. 74, 96 (2012).

[16] T. Wang, X. G. Diao, and P. Ding, Appl. Surf. Sci. 257, 3748 (2011).

[17] X. G. Diao, W. C. Hao, T. M. Wang, Z. Wu, and J. Huang, Aerospace Materials & Technology (in Chinese) 5, (2007).

[18] J. A. Jeong, H. S. Shin, K. H. Choi, and H. K. Kim, J. Phys. D: Appl. Phys. 43, 465403 (2010).