[1] H. W. Pinsler and W. E. Brower, J. Phys. Chem. Sol. 38, 393 (1977).

[2] S. Hasegawa and M. Kitayawa, Solid State Commun. 27, 855 (1978).

[3] N. F. Mott and E. A. Davis, Electronic Processes in Non-Crystalline Materials (Clarendon Press, Oxford, 1971).

[4] G.-F. Zhou, Materials Science and Engineering A 304-306, 73 (2001).

[5] M. Di Giulio, G. Micocci, R. Rella, P. Siciliano, and A. Tepore, Phys. Stat. Sol. A 136, K101 (1993).

[6] M. M. Hafiz, A. H. Moharram, and A. A. Abu-Sehly, Appl. Phys. A. 66, 217 (1998).

[7] J. Tauc, R. Grigorovici, and A. Vancu, Phys. Stat. Sol. 15, 627 (1966).

[8] H. B. Yao, L. P. Shi, T. C. Chong, P. K. Tan, and X. S. Miao, Jpn. J. Appl. Phys. 42, 828 (2003).

[9] A. S. Maan, D. R. Goyal, S. K. Sharma, and T. P. Sharma, J. Non-Cryst. Solids 183, 186 (1995).

[10] C. M. Lee, T. S. Chin, and E. Y. Huang, J. Appl. Phys. 89, 3290 (2001).

[11] M. M. Hafiz, A. H. Moharram, M. A. Abdel-Rahim, and A. A. Abu-Sehly, Thin Solid Films 292, 7 (1997).

[12] S. Choudhuri, S. K. Biswas, and A. Choudhury, Phys. Stat. Sol. A 83, K57 (1984).

[13] M. M. Hafiz, M. A. Abdel-Rahim, and A. A. Abu-Sehly, Physica B 252, 207 (1998).

[14] L. H. Wang, Y. T. Huang, and H. T. Zheng, Thin Film Technologies (Tsinghua University Press, Beijing, 1991).