[1] W. Shi, J. Xui, and X.-C. Zhang, Chin. Opt. Lett. 1, 308 (2003).
[2] W. Nunnally, IEEE Tran. Electron Devices 37, 2439 (1990).
[3] L. Tian and W. Shi, J. Phys. D: Appl. Phys. 41, 115107 (2008).
[4] F. Zutavern, J. Armijo, S. Cameron, G. Denison, J. Lehr, T. Luk, A. Mar, M. O’Malley, L. Roose, and J. Rudd, in Proceedings of IEEE 14th Pulsed Power Conference 591 (2004).
[5] K. S. Kelkar, N. E. Islam, P. Kirawanich, C. M. Fessler, and W. C. Nunnally, IEEE Tran. Plasma Sci. 36, 287 (2008).
[6] W. D. Prather, C. E. Baum, J. M. Lehr, J. P. O’Loughlin, S. Tyo, J. S. H. Schoenberg, R. J. Torres, T. C. Tran, D. W. Scholfield, and J. Gaudet, IEEE Trans. Plasma Sci. 28, 1624 (2002).
[7] W. Shi, L. Tian, Z. Liu, L. Zhang, Z. Zhang, L. Zhou, H. Liu, and W. Xie, Appl. Phys. Lett. 92, 043511 (2008).
[8] J. Yuan, W. Xie, H. Liu, J. Liu, H. Li, X. Wang, and W. Jiang, IEEE Trans. Plasma Sci. 38, 3460 (2010).
[9] L. Tian and W. Shi, J. Appl. Phys. 103, 124512 (2009).
[10] W. Shi, H. Dai, and X. Sun, Chin. Opt. Lett. 1, 553 (2003).