Researching

Journals
  • Advanced Photonics
  • Photonics Insights
  • Advanced Photonics Nexus
  • Photonics Research
  • Advanced Imaging
  • View All Journals
  • Chinese Optics Letters
  • High Power Laser Science and Engineering
    • Articles
  • Optics
  • Physics
  • Geography
  • View All Subjects
    • Conferences
  • CIOP
  • HPLSE
  • AP
  • View All Events
    • News
    About CLP
    Search by keywords or author
    Journals >Chinese Optics Letters >Volume 21 >Issue 7 >Page 071204 > Article
    • Chinese Optics Letters
    • Vol. 21, Issue 7, 071204 (2023)
    Improving accuracy and sensitivity of diffraction-based overlay metrology
    Wenhe Yang1,2, Nan Lin1,2,*, Xin Wei1,2, Yunyi Chen1,2..., Sikun Li2, Yuxin Leng2 and Jianda Shao2,**|Show fewer author(s)
    Author Affiliations
  • 1School of Microelectronics, Shanghai University, Shanghai 200072, China
  • 2Department of Precision Optics Engineering, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China
    • show less
    DOI: 10.3788/COL202321.071204 Cite this Article Set citation alerts
    Wenhe Yang, Nan Lin, Xin Wei, Yunyi Chen, Sikun Li, Yuxin Leng, Jianda Shao, "Improving accuracy and sensitivity of diffraction-based overlay metrology," Chin. Opt. Lett. 21, 071204 (2023) Copy Citation Text show less
    References

    [1] M. Neisser, H. J. Levinson, S. Wurm, D. Kyser, T. Watanabe, K. Macwilliams, H. Ishiuchi, W. Trybula, N. Hayashi, T. Fedynyshyn, C. Higgins, T. Nakamura, D. Resnick, M. Preil, M. Lercel, H. Aoyama, E. Hosler. International Roadmap for Devices and Systems: Lithography(2022).

    [2] E. Solecky, A. Rasafar, J. Cantone, B. Bunday, A. Vaid, O. Patterson, A. Stamper, K. Wu, R. Buengener, W. Weng, X. Dai. In-line E-beam metrology and defect inspection: industry reflections, hybrid E-beam opportunities, recommendations and predictions. Proc. SPIE, 10145, 101450R(2017).

    [3] J. Huang, J. Hu, W. Wang, Y.-P. Lee, C.-M. Ke, T.-S. Gau. Detection of lateral CD shift with scatterometry on grating structures in production layout. Proc. SPIE, 7638, 76381Q(2010).

    [4] W. Osten. Optical metrology: the long and unstoppable way to become an outstanding measuring tool. Speckle 2018: VII International Conference on Speckle Metrology, 1083402(2018).

    [5] B. Bunday, A. Bello, E. Solecky, A. Vaid. 7/5 nm logic manufacturing capabilities and requirements of metrology. Proc. SPIE, 10585, 105850I(2018).

    [6] H. Gao, W. J. Chung, N. Aung, L. Subramany, P. Samudrala, J.-M. Gomez. Comparison study of diffraction based overlay and image based overlay measurements on programmed overlay errors. Proc. SPIE, 9778, 97782Q(2016).

    [7] A. J. den Boef. Optical wafer metrology sensors for process-robust CD and overlay control in semiconductor device manufacturing. Surf. Topogr., 4, 023001(2016).

    [8] M. Adel, J. A. Allgair, D. C. Benoit, M. Ghinovker, E. Kassel, C. Nelson, J. C. Robinson, G. S. Seligman. Performance study of new segmented overlay marks for advanced wafer processing. Proc. SPIE, 5038, 453(2003).

    [9] P. Leray, D. Laidler, S. Cheng, M. Coogans, A. Fuchs, M. Ponomarenko, M. van der Schaar, P. Vanoppen. Achieving optimum diffraction based overlay performance. Proc. SPIE, 7638, 76382B(2010).

    [10] C.-M. Ke, J. Hu, W. Wang, J. Huang, H. Chung, C. Liang, V. Shih, H. Liu, H. Lee, J. Lin, Y. D. Fan. Evaluation of a new metrology technique to support the needs of accuracy, precision, speed, and sophistication in near-future lithography. Proc. SPIE, 7272, 72720A(2009).

    [11] P. Leray, S. Cheng, D. Kandel, M. Adel, A. Marchelli, I. Vakshtein, M. Vasconi, B. Salski. Diffraction based overlay metrology: accuracy and performance on front end stack. Proc. SPIE, 6922, 69220O(2008).

    [12] Y. Blancquaert, C. Dezauzier. Diffraction based overlay and image based overlay on production flow for advanced technology node. Proc. SPIE, 8681, 86812O(2013).

    [13] D. Kandel, M. Adel, B. Dinu, B. Golovanevsky, P. Izikson, V. Levinski, I. Vakshtein, P. Leray, M. Vasconi, B. Salski. Differential signal scatterometry overlay metrology: an accuracy investigation. Proc. SPIE, 6616, 66160H(2007).

    [14] Y.-S. Kim, Y.-S. Hwang, M.-R. Jung, J.-H. Yoo, W.-T. Kwon, K. Ryan, P. Tuffy, Y. Zhang, S. Park, N.-L. Oh. Improving full-wafer on-product overlay using computationally designed process-robust and device-like metrology targets. Proc. SPIE, 9424, 942414(2015).

    [15] F. Dettoni, R. Bouyssou, C. Dezauzier, J. Depre, S. Meyer, C. Prentice. Enhanced 28 nm FD-SOI diffraction based overlay metrology based on holistic metrology qualification. Proc. SPIE, 10145, 101452B(2017).

    [16] C. Palmer. Diffraction Grating Handbook(2014).

    [17] C. Liu, J. Lü, W. Liu, F. Wang, P. K. Chu. Overview of refractive index sensors comprising photonic crystal fibers based on the surface plasmon resonance effect. Chin. Opt. Lett., 19, 102202(2021).

    [18] C. Messinis, T. T. van Schaijk, N. Pandey, V. T. Tenner, S. Witte, J. F. de Boer, A. den Boef. Diffraction-based overlay metrology using angular-multiplexed acquisition of dark-field digital holograms. Opt. Express, 28, 37419(2020).

    [19] K. Bhattacharyya, A. den Boef, G. Storms, J. van Heijst, M. Noot, K. An, N.-K. Park, S.-R. Jeon, N.-L. Oh, E. McNamara. A study of swing-curve physics in diffraction-based overlay. Proc. SPIE, 9778, 97781I(2016).

    [20] S. O. H. Mohammed, D. Zhao, S. Y. Azeem, X. Goh, S. J. Tan, J. Teng, K. Huang. Efficiency-enhanced reflective nanosieve holograms. Chin. Opt. Lett., 20, 053602(2022).

    [21] B. Xu, Q. Wu, R. Chen, L. Dong, L. Zhang, Y. Wei. A study on diffraction-based overlay measurement based on FDTD method. Proc. SPIE, 11611, 116113B(2021).

    [22] S. Yang, H. Huang, G. Wu, Y. Wu, T. Yang, F. Liu. High-speed three-dimensional shape measurement with inner shifting-phase fringe projection profilometry. Chin. Opt. Lett., 20, 112601(2022).

    [23] N. Palina, T. Mueller, S. Mohanti, A. G. Aberle. Laser assisted boron doping of silicon wafer solar cells using nanosecond and picosecond laser pulses. 37th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, 002193(2011).

    Data from CrossRef

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    [1] 曹晶 Cao Jing, 杨文河 Yang Wenhe, 刘泽旭 Liu Zexu, 陈韫懿 Chen Yunyi, 魏鑫 Wei Xin, 林楠 Lin Nan.

    Full Text
    Get PDF
    Figures&Tables (8)
    Equations (33)
    References (23)
    Cited By (6)
    Get Citation
    Copy Citation Text
    Wenhe Yang, Nan Lin, Xin Wei, Yunyi Chen, Sikun Li, Yuxin Leng, Jianda Shao, "Improving accuracy and sensitivity of diffraction-based overlay metrology," Chin. Opt. Lett. 21, 071204 (2023)
    Download Citation
    EndNote(RIS)
    BibTex
    Plain Text
    Set citation alerts for the article
    Tools
    Share
    Set citation alerts for the article
    Save the article for my favorites
    Paper Information
    Recommended Topics
    laser devices and laser physics
    Lasers and Laser Optics
    Laser physics
    laser manufacturing
    Instrumentation, Measurement and Metrology