[4] M. Roth, M. Schollmeier. CERN Yellow Reports, 1, 231(2016).
[7] A. Andreev, N. Kumar, K. Platonov, A. Pukhov. Phys. Plasmas, 18, 10(2011).
[9] Z. Zhao, L. Cao, L. Cao, J. Wang, W. Huang, W. Jiang, Y. He, Y. Wu, B. Zhu, K. Dong, Y. Ding, B. Zhang, Y. Gu, M. Y. Yu, X. T. He. Phys. Plasmas, 17, 12(2010).
[10] D. Zhuang, J. H. Edgar. Mater. Sci. Eng. R Reports, 48, 1(2005).
[11] J. L. Wilbur, A. Kumar, E. Kim, G. M. Whitesides. Adv. Mater., 6, 7(1994).
[12] C. Mack. Fundamental Principles of Optical Litography: The Science of Microfabrication(2008).
[13] A. A. Tseng, K. Chen, C. D. Chen, K. J. Ma. IEEE Trans. Electron. Packag. Manuf., 26, 2(2003).
[14] J. Kong, A. M. Cassell, H. Dai. Chem. Phys. Lett., 292, 4(1998).
[15] X. Liu, P. R. Coxon, M. Peters, B. Hoex, J. M. Cole, D. J. Fray. Energy Environ. Sci., 7, 10(2014).
[16] B. R. Tull, J. E. Carey, E. Mazur, J. P. McDonald, S. M. Yalisove. MRS Bull., 31, 8(2006).
[17] T. Her, R. J. Finlay, C. Wu, S. Deliwala, E. Mazur. Appl. Phys. Lett., 73, 12(1998).
[18] M. Huang, F. Zhao, Y. Cheng, N. Xu, Z. Xu. ACS Nano, 3, 12(2009).
[19] B. K. Nayak, M. C. Gupta. Opt. Lasers Eng., 48, 10(2010).
[20] M. A. Sheehy, L. Winston, J. E. Carey, C. M. Friend, E. Mazur. Chem. Mater., 17, 14(2005).
[21] H. Liu, F. Chen, X. Wang, Q. Yang, H. Bian, J. Si, X. Hou. Thin Solid Films, 518, 18(2010).